Оборудование
Установка осаждения покрытий термическим, резистивным испарением с вертикально-протяженным паровым потоком
Область применения: получение аморфных и кристаллических слоев неорганических материалов с температурой плавления до 500°С .
Скорость осаждения до 7 мкм/мин при вращении 5-ти подложек
Максимальная толщина слоя–1000 мкм
Неравномерность по толщине +/- 1 – 4%
Температура подложек 4°С - 100°С .